光學測量儀產品及廠家
美國sonix 晶圓檢測設備 autowafe pro.為全自動晶圓檢測設計的機型，主要應用在bond wafer，mems 內部空洞、離層檢測，tsv量測方面。
更新時間:2025-05-04
美國泰克tek keithley半導體參數分析儀4200a-scs ，加快半導體設備、材料和工藝開發的探索、可靠性和故障分析研究。 業內領先性能參數分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測量。
更新時間:2025-05-04
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯合了原子力顯微鏡的核心部件來實現最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎的設計, coreafm非常合理的實現了最優化的原子力顯微鏡的功能.
更新時間:2025-05-04
韓國ecopia霍爾效應測量系統hms3000，hms5000，用于研究半導體材料/光電材料的電學特性，可以測量材料在不同溫度、磁場下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數及載流子類型。
更新時間:2025-05-04
美國 mmr 霍爾效應測量系統 h5000，用于研究光電材料的電學特性，利用范德堡測量技術測量材料在不同溫度、磁場下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數及載流子類型。整套系統主要包括控制器、樣品室、磁場三部分。
更新時間:2025-05-04
美國nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達1m/s,采用國際領先的白光共聚焦技術，可實現對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試，具有測量精度高，速度快，重復性好的優點，該儀器可用于測量大尺寸樣品或質檢現場使用。
更新時間:2025-05-04
德國 yxlon 高分辨率ｘ射線檢測設備 y.cougar smt 平板探測器（標配） y.cheetah 高速平板探測器（標配）
更新時間:2025-05-04
美國royec芯片拾取及放置系統die pick & place systems,new !! ap+ 全自動芯片分選系統
更新時間:2025-05-04
美國royec半自動型芯片拾取系統de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側面檢測,可選配芯片轉向功能.
更新時間:2025-05-04
美國rti自動特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個性價比較高的曲線追蹤設備。最多到96個channel，提供4種型號可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機型一樣，mt century系統的設計有與950系列的測試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時間:2025-05-04
德國klocke nanotech納米級三維測量儀3d nanofinger，是一種實用的納米精度坐標和形貌綜合測量設備。由臺架、控制系統、探頭、針尖組成. 可測量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統組合，進行在線檢測、質量控制等。
更新時間:2025-05-04
美國filmetrics 薄膜厚度測量系統f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺式薄膜厚度測量系統
更新時間:2025-05-04
美國 sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復雜元器件設計的新一代設備。echo pro™全自動超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動判別缺陷,高產量,無需人員重復設置.
更新時間:2025-05-04
德國bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經在包括制藥，食品，農業和化學行業在內的所有行業的質量控制應用中得到了很好的應用。它為耗時的濕法化學方法和色譜技術提供了一種實用的替代方法。ft-nir無破壞性，不需要樣品制備或危險化學品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時間:2025-05-04
sentech ald實時監測儀是一種新型的光學診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時間內開發新工藝、實時研究ald循環中的反應機理是sentech ald實時監測儀的主要應用。
更新時間:2025-05-04
gr-3028型紫外煙氣綜合分析儀（以下簡稱分析儀）以紫外差分吸收光譜技術為核心的新型產品，主要用于排氣管道中有害氣體成分的測量，廣泛應用于環境監測以及熱工參數測量等部門。該分析儀性能指標均符合國家環保局頒布的煙氣測試儀的有關規定。采用紫外差分吸收光譜技術和化學計量學算法測量so2/no/no2/o2/co/co2等氣體的濃度，不受煙氣中水蒸氣影響，具有較高
更新時間:2025-04-30
aoi可以置于生產線上的多個位置，但有三個位子是主要的：1、錫膏印刷之后。將aoi的檢測放在錫膏印刷機之后，這是個典型的放置位置，因為很多缺陷是由于錫膏印刷的不良所造成的，如錫膏量不足可能會導致元件丟失或開路的原因。2、回流焊，將檢測設備放置于貼片后
更新時間:2025-04-30
uk micron optoelectronics的表面粒子檢測器系列通過以下技術實現電子半導體行業表面污染的量化監測和控制：核心技術原理界面顆粒再懸浮技術?：采用界面技術，通過物理或氣流方式將附著在關鍵表面的顆粒重新懸浮，便于后續檢測。高精度光學檢測：基于激光光學傳感器和光散射原理，實時捕獲懸浮粒子的散射光信號，實現單個粒子尺寸的精確分析。
更新時間:2025-04-30
美國ogp光學式坐標測量儀 zip 250 ，5:1 accucentric 電動變焦透鏡，在每次放大變倍時自動校準，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時間:2025-04-30
美associated 耐壓測試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測試提供高直流輸出電壓。該產品非常易于使用，并為安全有效的測試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統。最后，該系統具有遠程安全聯鎖和數控電弧檢測系統。
更新時間:2025-04-30
montana 新型超精細多功能無液氦低溫光學恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環的制冷系統只需要極少量的氦氣即可讓系統達到極限低溫。系統具有超快降溫、超低震動和超高的溫度穩定性。全自動化的控制軟件，簡化了用戶的操作流程。
更新時間:2025-04-30
德國attocube磁共振顯微鏡/低溫強磁場磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無磁性材料制備的高數值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來滿足odmr實驗的需求。
更新時間:2025-04-30
sinton少子壽命測試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測試系統，采用了獨特的測量和分析技術，包括準穩定態光電導(qsspc)測量方法。可靈敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應,表面復合效應等缺陷情況。
更新時間:2025-04-30
日本理學x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學元件可選的高精度測角儀，用于氮化鎵（gan)質量管理，可對應大規格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統
更新時間:2025-04-30
日本理學x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無損方式xrd·mapping tool有多種光學元件可選的高精度測角儀，用于氮化鎵（gan)質量管理，可對應大規格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統
更新時間:2025-04-30
lfa 467 hyperflash 閃射法導熱儀，自由選擇測試氣氛，優化結構設置與閃射光源，16位自動進樣器，高的測量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統，設計獨特，性能優異，配備氙燈光源的，高溫測試系統，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內置微型管式爐，更高的測量效率，高數據采集速率- 用于薄膜與高導熱材料的解決方案
更新時間:2025-04-30
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時間:2025-04-30
布魯克 dektakxt 臺階儀（探針式表面輪廓儀）設計創新，實現了更高的重復性和分辨率，垂直高度重復性高達 5å。第十代 dektakxt臺階儀（探針式表面輪廓儀）的技術突破，實現了納米尺度的表面輪廓測量，從而可以廣泛的應用于微電子器件，半導體，電池，高亮度發光二管的研發以及材料科學域。
更新時間:2025-04-30
日本rion液體光學顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數據。
更新時間:2025-04-30
美az 總輻射度/太陽能吸收率(tesa)便攜式反射計 tesa 2000，根據astm e408測定熱發射率和空氣質量為零時的太陽吸收率(空間應用)。它緊湊，輕巧，堅固耐用，符合人體工程學設計，便于在野外或實驗室中使用。
更新時間:2025-04-30
日本rion氣體粒子計數器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時間:2025-04-30
日本rion 液體光學顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時間:2025-04-30
日本rion 液體光學顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時間:2025-04-30
日本理音rion液體光學顆粒度儀ks-19f，寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數據。
更新時間:2025-04-30
日本rion粒子計數器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計數器，可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。可測 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時間:2025-04-30
日本rion液體光學顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測光阻產品、sog 等產品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個通道，出廠默認）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時間:2025-04-30
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