掃描電子顯微鏡（SEM）產品及廠家
nanoanalysis系統由evex mini-sem，mini-sem，qdd先進的探測器技術和nanoanalysis軟件組成。mini-sem是具有高清度，高放大率，高性能的臺式掃描電子顯微鏡。mini-sem結合了傳統sem的性能，但在大小，price和易操作方面超越了臺式顯微鏡。
更新時間:2025-06-18
sem5000x是一款超高分辨率場發射掃描電子顯微鏡，其分辨率達到了突破性的0.6 nm@15 kv和1.0 nm@1 kv。高分辨物鏡設計、高壓隧道技術（supertunnel）以及鏡筒工藝升，實現了低電壓分辨率的進一步提升。全新設計的樣品倉，擴展接口增加至16個，快速換樣倉大支持8寸晶圓（大直徑208 mm），大擴展應用范圍。高掃描模式和自動功能增強，帶來了更強的性能和更好的體驗。
更新時間:2025-06-18
db500擁有自主可控的場發射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒，是一款優雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術（supertunnel）、低像差無漏磁物鏡設計，低電壓高分辨率成像，保證納米分析能力。“承影”離子鏡筒采用液態鎵離子源，擁有高穩定、高質量的離子束流，保證納米加工能力。集成式的納米機械手、氣體注入器、電子物鏡防污染機構，擁有24個擴展口，配置全面，自主可控，擴展性強，為您打造全能納米分析和加
更新時間:2025-06-18
國儀量子場發射掃描電鏡sem5000，可實現低電壓高分辨成像，磁性樣品也可適用，豐富的接口，滿足多樣的需求，精心設計的人機交互方便操作，快速上手
更新時間:2025-06-18
sem3200是一款高性能、應用廣泛的通用型鎢燈絲掃描電子顯微鏡。擁有出色的成像質量、可兼容低真空模式、在不同的視場范圍下均可得到高分辨率圖像。大景深，成像富有立體感。豐富的擴展性，助您在顯微成像的中盡情探索。
更新時間:2025-06-18
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態或缺陷 。
更新時間:2025-06-18
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態或缺陷 。
更新時間:2025-06-18
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現真空環境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2025-06-17
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩定性的傳統，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發的 neo
更新時間:2025-06-17
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質都能被發現。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2025-06-17
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統,適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內部的裂縫或雜質就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達450mm，檢測時間短，也不需要做其它設定。
更新時間:2025-06-17
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時間:2025-06-17
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價比高的掃描電子顯微鏡。使用初學者易懂的樣品交換導航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實時獲取元素分析結果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報告等。
更新時間:2025-06-17
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發的高亮度電子槍和透鏡系統，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設定視野到生成報告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業速度。
更新時間:2025-06-17
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時間:2025-06-17
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-06-17
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構，在隔離空氣的環境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環境。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統 jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 雙束加工觀察系統 jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統，在1kv低加速電壓下,實現了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-06-17
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2025-06-17
table-sem (臺式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機 - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時間:2025-06-16
table-sem (臺式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機 - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時間:2025-06-16
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強大的"zeromag"功能，讓您從光學顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實現了sem影像觀察時實時的eds成份分析。
更新時間:2025-06-13
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測成像設備，主要利用高頻超聲波，對各類半導體器件、材料進行檢測，能夠檢測出樣品內部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會對樣品造成損傷，不會影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導體、電力電子、熱管理材料、金剛石復合材料、碳纖維復合材料等行業需求。
更新時間:2025-06-13
ss-60系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小；放大倍率30 ~60,000 x，15nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；ss-60掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護；國產掃描電鏡，良好售后服務系統。
更新時間:2025-06-13
ss-150系列臺式掃描電鏡具有體型小巧,占用空間小；放大倍率30~150,000 x ；5nm分辨率；采用二次電子和背散電子雙重探測器；通過選配eds可進行元素成份分析；ss-150系列掃描電鏡具有強大軟件功能,操作簡單,易于維護；國產掃描電鏡，良好售后服務系統。
更新時間:2025-06-13
掃描電子顯微鏡 (sem) 不僅是開展科研工作所必不可少的工具，對于需要品控的制造工廠也是不可或缺的。 在這些場景中，用戶需要重復執行相同的觀察操作，因此快速完成這些操作有助于提高工作效率。 jsm-it510 新增的“簡單 sem”功能，用戶可將 sem 觀察所需的“手動重復操作交給它”，從而更高效、更輕松地完成 sem 觀察。
更新時間:2025-06-13
ui新一代的mira場發射掃描電鏡給用戶帶來了zui新的技術優點（如改進的高性能電子設備使成像過程更快，快速掃描系統包括了動態與靜態圖像扭曲補償，有內置的編程軟件等），同時保持著zui高的性價比。mira3的設計適用于各種各樣的sem應用及當今研究和產業的需求。大電子束流下的高分辨率有利于分析應用，例如：ebsd、wdx等分析。mira3場發射掃描電鏡可配置lm、xm或gm三種樣品室。
更新時間:2025-06-13
vega系列的設計適合各種sem應用及當今研究和工業的需求。經過10多年的不斷發展，tescan已經成功開發、研制和制造了vega的第三代產品。新一代的vega給用戶帶了zui新的技術優勢，包括改進的高性能電子設備使成像速度更快，包含了靜態和動態圖像扭曲補償技術的超快掃描系統，內置的編程軟件等，使vega系列產品保持著非常高的性價比。
更新時間:2025-06-13
蔡司電腦斷層掃描測量機-多探頭測量機設備;工業計算機斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內部結構的體積。蔡司是快速ct的先驅，并且能夠在生產周期中對組件進行完整的以體積為基礎的檢查。
更新時間:2025-06-13
飛納高分辨率業版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進的產品，第五代 phenom pro 放大倍數提升為 150,000 倍，分辨率優于 8 nm，30 快速得到表面細節豐富的高質量圖像
更新時間:2025-06-13
全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用 的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統可對大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節。利設計的放氣/樣品裝載系統可以實現全 快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-06-13
飛納電鏡能譜一體機 phenom prox 是終的集成化成像分析系統。借助該系統，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時間:2025-06-13
放大倍數：20000x；分辨率：優于30nm；燈絲：1500小時ceb6燈絲抽真空時間：10；樣品移動方式：自動馬達樣品臺樣品定位方式：光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時間:2025-06-13
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-06-13
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